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2023-01-30
更新時(shí)間:2022-03-11 01:33:24作者:佚名
光刻機(jī)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)的種類(lèi)可分為:接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻機(jī)的工作原理是通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過(guò)畫(huà)著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。
一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。光刻機(jī)的制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),因此,世界上只有少數(shù)廠家掌握。
光刻機(jī)的品牌眾多,根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類(lèi):高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種,分辨率通常七納米至幾微米之間,高端光刻機(jī)號(hào)稱(chēng)世界上最精密的儀器,世界上已有1.2億美金一臺(tái)的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱(chēng)現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,其制造難度之大,全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌為主。