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      1. 刻蝕機和光刻機的區(qū)別 刻蝕機和光刻機的區(qū)別是什么

        更新時間:2022-03-13 00:37:33作者:未知

        刻蝕機和光刻機的區(qū)別 刻蝕機和光刻機的區(qū)別是什么

          刻蝕機和光刻機的區(qū)別主要在:

          1、工藝不同:刻蝕機是將硅片上多余的部分腐蝕掉,光刻機是將圖形刻到硅片上;

          2、難度不同:光刻機的難度和精度大于刻蝕機。