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　　廈門集成電路流片補助申報指南

　　申報條件：

　　完成多項目晶圓流片或首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片的集成電路設計企業(yè)、高?；蚩蒲性核?。

　　補助標準：

　　(1)用于研發(fā)的多項目晶圓流片補助。①集成電路企業(yè)按照直接流片費用的60%給予補助;②高?；蚩蒲性核凑罩苯恿髌M用的70%給予補助。

　　(2)首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片補助。集成電路設計企業(yè)完成的全掩膜工程產(chǎn)品，按照產(chǎn)品首次流片(含F(xiàn)oundry IP授權、掩膜版制作、晶圓片等，晶圓片數(shù)量超過12片的，按12片核算)費用的30%給予補助。

　　(3)利用符合條件的集成電路生產(chǎn)線首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片補助。集成電路設計企業(yè)完成的全掩膜工程產(chǎn)品，按照產(chǎn)品首次流片(含F(xiàn)oundry IP授權、掩膜版制作、晶圓片等，晶圓片數(shù)量超過12片的，按12片核算)費用的40%給予補助。

　　上述補助每個單位年度補助總額最高不超過500萬元。

　　申報材料：

　　(1)流片補助資金申請表。

　　(2)流片補助資金匯總表。

　　(3)項目研發(fā)說明(包括產(chǎn)品類型、產(chǎn)品概述、產(chǎn)品技術先進性、產(chǎn)品經(jīng)濟效益)等。

　　(4)芯片版圖縮略圖(需用彩印)、產(chǎn)品外觀照片。

　　(5)晶圓廠流片項目訂單或合同、發(fā)票、付款憑證(境外加工的需提供報關單或委外加工證明)、EDA正版軟件使用證明;流片項目應包含光罩(層)、晶圓(張)，單據(jù)金額和申報金額如果有不一致需做說明。

　　(6)多項目晶圓項目需要提供以下說明之一：晶圓廠主導的多項目晶圓項目，應在合同上體現(xiàn);企業(yè)自主多項目晶圓項目，需提供圖示說明此套光罩所包含的項目;企業(yè)采用多合一復合板，需提供多合一板圖示說明。

　　備注：

　　通過第三方流片的，需提供第三方與晶圓廠的代理關系佐證材料。