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2023-01-31
美國要求荷蘭對華禁售ASML光刻機，對芯片國產化影響有多大？｜硅基世界
更新時間：2022-07-07 20:20:19作者：未知
（圖片來源：Dreamstime）
為了遏制中國發(fā)展芯片產業(yè)，美國開始脅迫全球光刻機巨頭阿斯麥公司（ASML）對華禁售產品。
鈦媒體App 7月7日消息，據(jù)環(huán)球時報引述媒體報道稱，美國官員正在游說荷蘭當局，在禁止向中國出售最先進的極紫外線光刻機（EUV）基礎上，進一步將禁售范圍擴大到上一代技術深紫外線浸沒式（ArFi）DUV光刻機的出口。
報道稱，由于無法獲得荷蘭政府的出口許可，ASML已經無法向中國出口其最先進、每臺售價約1.6億歐元的EUV光刻機。而美國此次針對的這些舊款DUV光刻機，可生產7nm及以上制程工藝芯片，是制造汽車、手機、計算機乃至機器人所需的某些非先進芯片的最常用設備，在目前全球芯片短缺之際必不可少。如果美國脅迫成功，中芯國際和華虹半導體等中國芯片制造商可能會因此受到沉重打擊。
對此，7月6日例行記者會上，中國外交部發(fā)言人趙立堅表示，這是美方濫用國家力量，倚仗技術霸權搞“脅迫外交”的又一例證，這也是典型的技術恐怖主義。在當前全球化背景下，對別國搞技術封鎖、技術脫鉤，這只會讓其他國家更加警醒，在技術上一味依靠美國行不通，也會促使各國加快實現(xiàn)科技自主自立自強。
受此消息影響，ASML的美國存托憑證（ADR）跌幅高達8.3%，為2020年3月以來最大盤中跌幅。但與此同時，限制進口光刻機利好國產替代，周三相關半導體設備股出現(xiàn)大漲，拓荊科技 (Piotech)、沈陽芯源 (Kingsemi）漲幅超10%，中微公司、北方華創(chuàng)帶領滬深300大漲，科創(chuàng)50 (STAR50）指數(shù)則上漲了2.3%。
截止發(fā)稿前，由于市場傳出美國考慮對中國半導體征稅，7月7日開盤，A股半導體板塊普跌，瑞芯微、大港股份、盛美上海跌5%，東微半導、易天股份、博通集成跌4%，斯達半導、中晶科技跌3%。
光刻機巨頭已成為半個美國公司
今年4月20日，荷蘭ASML公司發(fā)布財報，2022年第一季度光刻機凈銷售額達35.34億歐元。其中，中國大陸市場的營收占比達到34%，超過12億歐元。
而這么亮眼的業(yè)績，主要歸功于EUV光刻機的貢獻。公司CFO Roger Dassen此前接受采訪，當被問及美國半導體禁令對ASML業(yè)務有什么影響時，他表示，盡管美國對華禁售EUV光刻機，但ASML可以直接向中國出口DUV光刻機，無需美國的授權。
眾所周知，目前主流的光刻機主要有兩種：一種是極紫外線EUV光刻機，用于7nm及以下的芯片光刻；另外一種是DUV光刻機，稱之為深紫外線光刻機，主要用于10－130nm光刻機，只有ASML能生產。
DUV光刻機又有兩大路線，其中一種就是ASML為代表的浸潤式光刻機，以水為介質，采用193nm波長的光線，在水中折射后，變成132nm，而這種設備一次曝光可以生產45-28nm的芯片，價格比EUV便宜一半。
盡管DUV光刻機不是最先進的，但在多重曝光的情況下，最高也能做到10nm制程，由于無需獲得美國出口許可證，相關產品一直正常給長江存儲，上海華虹等廠商供貨。
所以，一旦美國推動ASML禁止對中國企業(yè)出售DUV光刻機，意味著芯片代工廠的擴產之下無法獲得設備，包括部分車規(guī)級芯片及消費電子芯片，都將面臨受制于人的命運。同時，這也意味著美國對中國芯片產業(yè)的全面圍堵已經展開。
實際上，企業(yè)都是以盈利為目的。媒體分析稱，如果ASML被禁止對華出口DUV，其收入可能會萎縮5%-10%。
那么，為什么ASML這樣一家光刻機巨頭企業(yè)，減少要屈服于美國的管制？根據(jù)中國科學院ICAC，背后主要有三個原因：
1、美國在DUV、EUV技術方面滲入ASML。1997年，ASML加入英特爾和美國政府牽頭成立的EUV LLC聯(lián)盟當中。該聯(lián)盟匯聚了美國頂尖的研究資源和芯片巨頭，包括IBM、AMD、摩托羅拉等，集中數(shù)百位頂尖科學家，共同研究EUV光刻技術。隨后在2007年起，ASML陸續(xù)收購美國Brion、Cymer、HMI等公司，增強了在光刻、光源、電子束檢測等方面的技術儲備，從而能夠開展EUV技術攻克。
2、美國通過ASML的上市公司身份入股。隨著其在DUV時代取得成功，英特爾入股ASML疊加并購加速，2012年，英特爾、三星、臺積電共同買入ASML 23%的股權，獲得了ASML EUV光刻機的優(yōu)先供貨權，成為了利益共同體。目前ASML的前三大股東均來自美國，合計掌握ASML近30%的股權，美國加速實現(xiàn)對ASML的資本和技術雙控制。
ASML光刻機上下游產業(yè)鏈（來源：方正證券）
3、ASML的EUV設備零部件受控于美國。截止2020年末，ASML的EUV中有90%零部件來自進口，而且根據(jù)ASML加入EUV LLC的承諾，美國零部件需占比55%以上，并接受定期審查。
所以這就是美國為什么能讓荷蘭對華禁售DUV、EUV光刻機的主要原因——ASML的EUV光刻機的實際控制方是美國而非荷蘭。因此，ASML也被行業(yè)稱為“半個美國公司”。
實際上，美國要求荷蘭ASML禁止出售光刻機給中國芯片制造企業(yè)，始于前任總統(tǒng)特朗普時期。
2018年開始，美國就對荷蘭進行游說，并展開強大攻勢，以阻撓荷蘭將芯片制造技術出售給中國。時任美國總統(tǒng)副國家安全事務助理還對荷蘭警告稱，如果沒有美國的零部件，ASML的設備就無法運轉，而美國白宮有權限制這些零部件向荷蘭出口。不久后，荷蘭就決定ASML的出口許可證不予續(xù)期，而之前計劃好向中芯國際出口的一臺價值1.5億美元的光刻機，至今也沒有發(fā)貨。
今年5月底至6月初，美國商務部副部長唐·格雷夫斯在訪問荷蘭和比利時期間討論供應鏈問題時提出禁止對中國企業(yè)銷售DUV光刻機的要求。其間，唐·格雷夫斯還到訪了ASML位于荷蘭總部并會見了公司CEO彼得·溫寧克。
不過，此前溫寧克曾表明過態(tài)度：反對禁止向中國出口DUV光刻機。
報道還稱，美國也在努力向日本施壓，要求ASML對手——日本尼康等企業(yè)停止向中國芯片制造企業(yè)交付光刻技術。
針對上述消息，美國商務部與荷蘭外交部均表示拒絕發(fā)表任何評論，ASML和尼康兩家公司也都沒有做出實質性的回應。
根據(jù)ASML計劃，2022年該公司有望生產55臺EUV光刻設備，到2023年達到每年超過60臺，有望供應給英特爾、三星、臺積電等企業(yè)。
國產替代影響幾何？
2021年，全球半導體行業(yè)總銷售額達5500億美元。其中，作為全球最大、發(fā)展最快的芯片半導體銷售市場，彭博數(shù)據(jù)顯示，過去4個季度，每個季度增長最快的20家芯片產業(yè)公司中，平均有19家來自中國大陸。
在現(xiàn)代中美科技競爭背景下，“國產替代”已成為中國半導體產業(yè)發(fā)展的象征。
“中國半導體股背后的邏輯，一直是國產替代進口的設備和芯片，”杭州希言資產管理基金經理石軍波接受媒體采訪時表示，即使技術可能不那么先進，國內半導體企業(yè)依然在被美國迫使下發(fā)展，從而獲得更大的市場份額。
光刻機被稱作“半導體工業(yè)皇冠上的明珠”，與航空發(fā)動機并列，是人類工業(yè)難度極限。而想要保證光刻機良好運轉，每個環(huán)節(jié)的成功率都要高達99.99%，這是工程學上的巨大挑戰(zhàn)。
溫寧克曾表示，如果想打破ASML等國外企業(yè)制定的技術規(guī)則和壟斷優(yōu)勢，中國需要集體參與精密零部件的供應開發(fā)。他認為中國目前不太可能獨立掌握頂級光刻技術。
對于國產光刻產業(yè)鏈，首先關注華為的投資布局。天眼查數(shù)據(jù)顯示，繼2021年6月，華為旗下的哈勃投資公司入股中科院微電子所控股、國內第一的193nm ArF準分子激光器光源系統(tǒng)企業(yè)“北京科益虹源”之后，今年4月，華為哈勃再度投資光源相關產業(yè)，入股光電模塊零部件公司“微源光子（深圳）科技”。
其次是企業(yè)的業(yè)績。7月5日，國內刻蝕設備（光刻下游，溶解光刻膠部分金屬）廠商中微公司（688012.SH）發(fā)布2022年中報預告，公司預計今年二季度營收19.7億元，同比增長47.1%。其中新增訂單下，營收同比增長62%至30.6億元。中微公司董事長尹志堯透露，公司研發(fā)的等離子刻蝕設備已經進入客戶5nm生產線。該公司預計上半年扣非歸母凈利潤大增630%。
最后是未來國產光刻行業(yè)的發(fā)展評估。方正證券發(fā)布研報稱，光刻機作為前道工藝七大設備之首（光刻機、刻蝕機、鍍膜設備、量測設備、清洗機、離子注入機、其他設備），價值含量極大，技術要求極高，在制造設備投資額中單項占比高達23%。而目前，全球前道光刻機被ASML、尼康、佳能所壟斷，當前實現(xiàn)光刻機的國產替代勢在必行，具有重大戰(zhàn)略意義。
“國產光刻機應從如下四個方面尋求突破，包括產業(yè)分工、科研投入、技術突破以及人才積累?！狈秸C券在報告中稱，對于國內關注產業(yè)鏈，主要關注以下兩部分：
一是關注光刻機核心組件，包括負責整體集成的上海微電子、負責光源系統(tǒng)的科益虹源，負責物鏡系統(tǒng)的國望光學，負責曝光光學系統(tǒng)的國科精密，負責雙工作臺的華卓精科，負責浸沒系統(tǒng)的啟爾機電等；二是關注光刻配套設施發(fā)展，包括光刻膠，光刻氣體，光掩模版，光刻機缺陷檢測設備，涂膠顯影設備等。
（本文首發(fā)鈦媒體App，作者｜林志佳）