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2023-01-31
俄羅斯科學(xué)院放出豪言：2028 年自行研發(fā)出光刻機，可生產(chǎn)7nm芯片
更新時間：2022-10-23 08:06:37作者：智慧百科
IT之家 10 月 22 日消息，據(jù)俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機構(gòu)公文，俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所(IPF RAS) 正在開發(fā)俄羅斯首套半導(dǎo)體光刻設(shè)備，并對外夸下?？冢哼@套光刻機能夠使用 7nm 生產(chǎn)芯片，可于 2028 年全面投產(chǎn)。
▲Центр управления реализацией Стратегии развития Нижегородской областиПроектный офис
據(jù)介紹，他們計劃在六年內(nèi)制作出光刻機的工業(yè)原型，首先要在2024 年開發(fā)一臺 alpha 機器。這一階段的重點不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統(tǒng)的全面性。
然后，到 2026 年，alpha 應(yīng)該被 Beta 所取代。屆時所有系統(tǒng)都將得到改進(jìn)和優(yōu)化，分辨率也將得到提升，生產(chǎn)力也將提高，許多操作將實現(xiàn)機械自動化。這一階段重要的是要將其集成到實際的技術(shù)流程中，并通過“拉起”適合其他生產(chǎn)階段的設(shè)備對其進(jìn)行調(diào)試。
第三步也就是最后一步，將為光刻機帶來更強的光源、改進(jìn)的定位和饋送系統(tǒng)，并使得這一套光刻系統(tǒng)能夠快速準(zhǔn)確地工作。
IT之家曾報道，俄羅斯目前已經(jīng)可以生產(chǎn) 65nm 制程的芯片，該國此前宣布了一項國家計劃，希望在 2030 年開發(fā) 28nm 制程，希望靠著對外國芯片進(jìn)行逆向工程，并培養(yǎng)當(dāng)?shù)匕雽?dǎo)體人才。
俄羅斯科學(xué)院納米結(jié)構(gòu)研究所副所長表示，全球光刻機領(lǐng)導(dǎo)者 ASML 近 20 年來一直致力于 EUV 曝光機，目標(biāo)是讓世界頂尖半導(dǎo)體廠商保持極高的生產(chǎn)效率。但俄羅斯并不需要，只要根據(jù)俄羅斯國內(nèi)的需求向前推進(jìn)即可。
從其他外媒的評價來看，俄羅斯的想法似乎太過天真，畢竟想在 6 年內(nèi)僅憑自己研發(fā)出可媲美 ASML 十年積淀的光刻技術(shù)實在是有點難以令人相信，且晶圓廠并非光靠光刻機就可生產(chǎn)出芯片，還需要許多外圍設(shè)備，而俄羅斯并不滿足獨立生產(chǎn)這些設(shè)備的條件。
值得一提的是，下諾夫哥羅德代表團(tuán)還向大家展示了未來光刻設(shè)備的演示樣品。這套系統(tǒng)基于下諾夫哥羅德的 IAP RAS 開發(fā)、制造和安裝。不過他們自己也提到，這甚至不是設(shè)備原型，而是“原型的原型”。
這套演示設(shè)備雖然不能解決實際的工業(yè)問題，但它可以讓科學(xué)家有機會驗證關(guān)鍵技術(shù)的可行性，并測試進(jìn)一步工作所需的其他關(guān)鍵假設(shè)。